產品介紹／產品一覽

• ESCO-TDS1200Ⅱ IR
  紅外線加熱型升溫脫附分析儀
  
  薄膜脫氣評估的業界標準。
  
  在超高真空環境（10^-7Pa以下）中，透過紅外線加熱CVD膜或ALD膜，並利用四極桿質譜儀（QMS）以高靈敏度即時偵測逸出的分子。 能以高靈敏度偵測相當於單分子層（monolayer）的微量氫氣與水。
  亦可進行定量分析。
  
• NEW ESCO-TDS1200Ⅱ IR BGM
  搭載能帶間隙監測器的升溫脫離分析儀
  
  實現矽溫的高精度測量。
  
  透過能帶間隙監測器，以光學方式直接測定晶圓表面溫度。
  即使在高速升溫時，也能維持高度的控制性。
  最適合進行精密脫離溫度評估的高階機型。
  
  
  
• ESCO-TDS1200Ⅱ IR PKG（TDS 連結型）
  氣密封裝內部氣體分析儀
  
  支援TDS分析及氣密封裝的殘留氣體分析（RGA/IGA/IVA）。
  一款能同時實現氣密封裝殘留氣體分析（RGA/IGA/IVA）與薄膜材料TDS分析的複合式裝置。可精確定性與定量分析影響雷射二極體、石英元件及MEMS等元件可靠性的封裝內部氣體。能從前端到後端進行一貫性的評估。
  
  
• NEW ESCO-TDS600 IR H2
  升溫脫附氫分析儀
  
  質譜儀式升溫脫附氫分析儀（氫脆化評估模型）。
  在維持質譜儀式（真空型）定量精準度的同時，兼具氣體交叉法般的操作簡便性。省去樣品真空輸送步驟，實現簡易操作。
  從製造現場的品質管理到研發，提供強大支援。
  
• 開發中ESCO-TDS-100 Cryo H2
  低溫鋼中擴散性氫分析儀
  
  支援從零下100℃開始的低速升溫（1℃/min）。
  能夠分離並檢測被金屬材料晶格缺陷（晶界、位錯、空位等）捕獲的氫。透過徹底的防結霜措施，強力支援高精度的氫捕獲位點分析。
  
  
  
• ESCO-TDS1700 IH
  高頻加熱式升溫脫附分析儀
  
  可在最高達1700℃的超高溫範圍內進行材料評估
  實現。
  搭載高頻感應加熱（IH）技術，可進行最高達1700℃的超高溫測量。最適合用於評估高熔點金屬、陶瓷、碳等高溫材料（耐熱材料）。
  
  
• 客製化設備的開發與製造
  我們運用在TDS累積的技術，承接各類客製化設備的委託開發。雖然多數案例因保密義務而無法公開，但在此介紹一個可供公開的開發案例。
  
  

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