光激發脫離法的原理
光激發脫離需經由三個過程(①光激發、②鍵結斷裂、③脫離)方能發生。
①光激發
當σ軌道(結合性軌道)中的電子吸收波長等同於σ軌道與σ*軌道間能量差的光時,便會躍遷至σ*軌道(反結合性軌道)。
透過採用光束密度高的真空紫外光,即使光路長度短的薄膜樣品,也能高效激發樣品。
②鍵結斷裂
當σ軌道與σ*軌道各佔據一個電子時,其鍵結能等於兩軌道能級之和。若鍵結能為負值,σ鍵結將發生斷裂。
③脫離
σ鍵斷裂會產生多種碎片。部分分子會在表面重新結合。若生成的碎片未被樣品束縛,則會發生脫離現象。
以下將透過勢能曲線(圖1)進行說明。
圖1 勢能曲線
當兩個電子處於結合軌道狀態(圖1 綠色勢能曲線)時,各振動能級呈玻爾茲曼分布。
若照射能引發電子躍遷的真空紫外光波長,則會形成結合軌道與反結合軌道各含一個電子的狀態(圖1 紅色勢能曲線)。
處於零以上勢能的分子將發生鍵裂。
圖2 真空紫外光引發的斷裂
另一方面,當存在多重鍵結或受束縛的碎片時,可能出現鍵結無法完全斷裂,或斷裂後仍無法脫離的情況。
圖3 斷裂但未能脫離之案例①
圖4 斷裂但未能脫離之案例②

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