光激發脫離分析裝置PSD

特徵
光激發脫離分析裝置（PSD）是透過將真空紫外光（120～400nm）照射於樣品，並以質譜儀觀測從樣品最表面脫離之分子的分析裝置。
透過掃描照射波長，可解析各波長下離脫組分的差異，適用於分析樣品表面污染物、樣品最表層結構，以及樣品受真空紫外光影響等現象。
此外，透過熱輔助功能可觀察特定溫度下的光激發脫離現象，有助於半導體、顯示器、太陽能電池等領域中熱光製程的設計。

配備載入鎖定腔室

配備載入鎖定腔室
本公司的分析裝置與同類產品相同，皆配備用於提升測量效率及維持高真空環境的載入鎖定腔室。

真空紫外光源
由氬氣中Nd³⁺：YAG雷射產生的雷射激發等離子體，可發射涵蓋真空紫外至可見光的廣譜光波。透過衍射光柵分光後，將單色集光照射於樣品，促使各照射波長產生離子化。波長掃描可設定為由長波長掃向短波長，或由短波長掃向長波長。

熱輔助型
真空紫外線照射引發的光激發脫離反應，可透過升溫促進。本機應用TDS技術，能在維持樣品恆溫狀態下進行真空紫外線照射。

光脫離分析裝置的構成

光脫離分析裝置的構成

光脫離分析裝置的構成
光脫離分析裝置由產生真空紫外光的真空紫外光源部，以及檢測從樣品脫離成分的測量部所構成。

真空紫外光源
當將Nd³⁺：YAG雷射導入充填氬氣的光源腔室時，氬氣會受到激發而產生等離子體。此雷射激發等離子體會釋放出涵蓋真空紫外至可見光領域的寬波長光譜。
透過衍射光柵分光後，將單色光照射於樣品，即可觀測各照射波長所產生的離子脫離現象。
可用波長範圍取決於搭載的衍射光柵，本裝置標準配置為120～400nm。

載物鎖定室
載物鎖定室是實現高效率（高通量）與高靈敏度測量的必要設備。
本公司載物鎖定室搭配樣品輸送機構，可將樣品快速導入超高真空分析腔室。
若無負壓鎖定室，每次更換樣品時皆須將分析室暴露於大氣中。一旦暴露於大氣，分析室內將吸附大量大氣成分（尤其水分），需耗費長時間才能充分排空。

分析腔室
透過真空紫外光照射引發的光激發脫離反應，可藉由升溫加以促進。運用本公司TDS技術，能在維持樣品恆溫的狀態下實施真空紫外光照射。
分析腔室結構與升溫脫離分析裝置相同。即使在高溫環境下，仍能將背景值上升幅度控制在最小範圍內進行樣品加熱。真空紫外光源部的分光腔室與測量部的分析腔室，透過鎂氟化物（MgF2）窗法蘭隔開並連接。