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会污染设备的样品

含易升华金属(蒸气压较高金属)的样品。
若使金属大量升华,可能沉积于QMS分析管、真空计及观察窗上,导致性能劣化或故障风险。

此外,蒸汽还会沉积在腔室内壁及部件上,导致腔室表面洁净度下降,脱气量增加。
此时需清洁腔室内壁或更换部件。
蒸汽压高的Zn和Mg在低温下即可升华,需特别注意。

高蒸气压金属示例(Zn, Mg, Pb, In, Mn, Ga, Ag, Sn, Al, Cu等)
含卤素样品。
当含卤素(尤其是氟)的成分脱离时,卤素会滞留于主腔室及检测器内部。
含有有机化合物的样品。
当大量有机化合物被加热至高于分解温度时,会发生热分解,导致分解产物飞散并污染主腔室及检测器。
此时需要对主腔室进行烘烤或清洁,并更换部件。
释放大量气体的样品
即使成分不会污染设备,若样品释放的气体量超过涡轮分子泵或质谱仪的允许压力,仍会导致涡轮分子泵或质谱仪故障。


在测量可能存在污染的样品时,建议进行预测。
・降低升温速率(约每分钟10℃)
・采用Bar模式或Scan模式
・尽量减少样品用量
・若检测到上述成分,则不再继续升温

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