1991: 논문·잡지·책

1.Oxidation Process of Hydrogen Terminated Silicon Surface Studied by Thermal Desorption Spectroscopy

• Norikuni Yabumoto, Kazuyuki Saito, Mizuho Morita* and Tadahiro Ohmi*
• NTT LSI Laboratories, *Faculty of Engineering,Tohoku University
• Jpn.J.Appl.Phys.,30,L419(1991)

2. 새로운 승온 탈리 가스 분석 장치의 개발 및 VLSI 재료 및 공정 평가에의 응용

• 히라시타 노리오, 아지오카 쓰네오, 히나기 야스시*
• 오키 전기 공업(주) 초LSI 개발 센터, *전자 과학(주)
• 진공, 34, 813(1991)

～1991: 학회 요지

1. 세척 실리콘 표면의 물성과 그 분석

• 야부 주본, 사이토 카즈유키, 모리타 미즈호*, 오오미 타다히로*
• NTT LSI 연구소, *도호쿠대학 공학부
• 1991 전자정보통신학회 춘계 전국대회 요지집,5-331,(1991)：SC-9-1

발표 연도 불명: 논문·잡지·책

1. APIMS를 이용한 가열 탈리 가스 분석

• 미조가미 모토아키, 나카노 카즈오, 코이케 조지, 오가와 테츠야
• 히타치 동일 전자 장치 사업부
• 히타치 동일 TECHNICAL REPORT,11,10(????)

2. 승온 탈리 가스 분석법(TDS)의 응용

• 도레이 리서치 센터
• 도레이 리서치 센터
• Technical Information

3. 실릴레이션(SCS) 방법에 의한 표면 제어 통한 개선된 인터커넥트 수율

• K.Yano, M.Yamanaka, Y.Terai, T.Sugiyama, M.Kubota, M.Endo and N.Nomura
• Semiconductor Research Center, Matsushita Electric Industrial Co.,Ltd.
• Symposium 1993 on VLSI Technology

4. 전계 도금 구리박에 대한 극박 주석 도금의 확산 거동

• 山下勝, 大熊秀雄*
• (주)아이테스 신뢰성・재료기술부, 일본 아이・비・엠(주) 야스 사업소 액정기술부
• 출처 불명

5. 황의 침적을 이용한 이방성 에칭

• 카도무라 신고, 타츠미 테츠야, 나가야마 데쓰지, 사토 준이치
• 소니(주)
• Semiconductor World 12: 1993년 01월

6. 승온 열탈리 분석 장치를 이용한 Si 웨이퍼 표면의 유기물 평가

• 오카다 치즈코, 타츠타 지로, 신교우치 다카유키
• 미쓰비시 머티리얼(주) 중앙연구소
• 출처 불명

7. MODEL STUDIES OF DIELECTRIC THIN FILM GROWTH CVD DEPOSITION OF SiO2 FROM TEOS

• J.E.Crowell, H-C.Cho, F.M.Cascarano, L.L.Tedder and M.A.Logan*
• Department of Chemistry, University of California, San diego, *Lam Reserch Corporation, Advanced Research Center
• 출처 불명

8. Evaluation of adsorbed molecules on silicon wafers

• Norikuni YABUMOTO
• NTT Interdisciplinary Research Laboratories
• 출처 불명

9. TDS를 이용한 O₂+H₂O 다운플로우의 부식 억제 메커니즘 연구

• 小尻英博, 松尾二郎*, 渡辺孝二, 中村守孝
• 후지쯔, *후지쯔 연구소
• 전자정보통신학회 기술연구보고. SDM, 실리콘 재료·디바이스 94(11), 39-46, 1994-04-21

10. 실리콘 웨이퍼 표면의 흡착 성분 - 승온 탈리법(TDS)에 의한 분석

• 야부 주혼
• NTT LSI 연구소
• 출처 불명

발표 연도 불명: 학회 초록

1. 착색 하이드록시아파타이트의 특성 분석

• 이시카와 고우
• 아사히 광학 공업(주) 뉴세라믹스 사업부
• 아파타이트 연구회

2.Recovery of Useful Hydrocarbons from Oil Palm Waste Using ZrO2 Supporting FeOOH Catalyst

• Takao MASUDA, Yumi KONDO, Masahiro MIWA, Shin R. MUKAI, Kenji HASHIMOTO and *Mikio TAKANO
• Division of Chemical Engineering, Graduate School of Engineering, Kyoto University and *Institute for Chemical Research, Kyoto University
• Book of Abstracts, 16th International Symposium on Chemical Reaction Engineering

3. SiO₂ 홀 내에서의 에칭 표면 반응

• 히라시타 노리오, 이케가미 나오카츠
• 오키 전기 공업(주) 초LSI 연구개발 센터
• 제44회 반도체 전문 강습회 예고집, 139