2004：논문·잡지·책

1.Evolution of water vapor from indium-tin-oxide transparent conducting films fabricated by dip coating process

• Y. Sawada*1, S. Seki*1, M. Sano*2, N. Miyabayashi*2, K. Ninomiya*3, A. Iwasawa*3, T. Tsugoshi*4, R. Ozao*5 and Y. Nishimoto*6
• *1)Tokyo Polytechnic University, *2)ESCO Co. Ltd., *3)TOTO Ltd., *4)National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, *5)North Shore College of SONY Institute, *6)Kanagawa University
• Journal of Thermal Analysis and Calorimetry, Vol. 77 (2004) 751-757

2004：학회 초록

1.Water sorbability of low-k dielectrics measured by thermal desorption spectroscopy

• Hiroshi Yanazawa, Takuya Fukuda, Yoko Uchida, Ichiro Katou
• Association of Super-Advanced Electronic Technologies
• Surface Science,566-568(2004)pp566-570

2.Reaction of Hydrogen-Desorbed Si(100) Surfaces with Water during Heating and Cooling

• Shinichi URABE, Kazuo NISHIMURA, Satoru MORITA and Mizuho MORITA
• Department of Precision Science and Technology, Graduate School of Engineering, Osaka University
• Jpn. J. Appl. Phys,43,8242(2004)

3.Analysis of firing process of titania gel films fabricated by sol-gel process

• Nishide Toshikazu*1, Yabe Takayuki*1, Miyabayashi Nobuyoshi*2, Sano Makiko*2
• 1 Department of Materials Chemistry and Engineering, College of Engineering, Nihon University, *2 ESCO Ltd.
• Thin Solid Films,467,43(2004)

4.승온 탈리 분석법에서 H₂O의 패턴 계수 결정법

• 토키와 사토코*1, 니시데 리이치*2, 하시즈메 아키오*3, 미야바야시 노부요시*3
• *1 쓰쿠바대학교 응용물리연구소
• *1 일본대학교 공학부 차세대 공학기술연구센터, *2 일본대학교 공학부 물질화학공학과, *3 전자과학(주)
• J.Mass Spectrom.Soc.Jpn,52,45(2004)

 

2003：논문·잡지·책

1.Different Adsorption States between Thiophene and α-Bithiophene Thin Films Prepared by Self-Assembly Method

• Eisuke ITO, Jaegeun NOH and Masahiko HARA
• Local Spatio-Temporal Functions Laboratory, Frontier Research Systems, RIKEN
• Jpn.J.Appl.Phys.,42,852(2003)

2.Characteristics of Bottom Gate Thin Film Transistors with Silicon rich poly-Si1-xGex and poly-Si fabricated by Reactive Thermal Chemical Vapor Deposition

• Kousaku Shimizu,JianJun Zhang,Jeong-Woo Lee and Jun-ichi Hanna
• Imaging Science and Engineering Laboratory,Tokyo Institute of Technology 4259 Nagatsuta Midoriku Yokohama 226-8503 Japan
• Materials Research Society Symposium Proceedings,Vol.762,pp.253-258(2003)

3.Quantitative Evaluation of the Photoinduced Hydrophilic Conversion Properties of TiO₂ Thin Film Surfaces by the Reciprocal of Contact Angle

• Nobuyuki Sakai, Akira Fujishima, Toshiya Watanabe, and Kazuhito Hashimoto
• *1)Research Center for Advanced Science and Technology, The University of Tokyo
• *2)Department of Applied Chemistry, School of Engineering, The University of Tokyo
• J. Phys. Chem. B, 2003, 107(4), pp.1028-1035

2003：학회 초록

 

1.Water sorbability of Low-k dielectrics measured by Thermal Desorption Spectroscopy

• Hiroshi Yanazawa, Takuya fukuda, Yoko Uchida and Ichiro Katou
• Asociation of Super-Advanced Electronic Technologies (ASET)
• Euorpian Cenference on Surface Science (ECOSS22), Abstract ID:17017(2003)

2.Surface fluorination of MgO protective film to reduce chemical reactivity with H2O and CO2

• Hideaki Sakurai, Ginjiro Toyoguchi, Yoshirou Kuromitsu
• Central Research Institute, Mitsubishi Materials Corporation
• Society for Information Display (SID) 03 DIGEST, 23.3(2003)

3.유기EL/Si 발광층에 미치는 전자 주입층의 영향

• 미토미 유타카, 다카하시 히데아키, 이와사키 요시타카, 하스미 마사히코, 우에노 토모오, 쿠로이와 코이치, 미야바야시 노부요시*
• 도쿄 농공대 공학부, *전자과학(주)
• 제64회 응용물리학회 학술강연회(2003가을): 31p-YL-11

4. H₂O 어싱을 이용한 CVD-SiOC 막의 어싱 손상 저감

• 야마나카 미치나리, 유아사 히로시, 오오츠카 토시히로, 사카모리 시게노리*
• 마쓰시타 전기 산업 주식회사 도체사 공정 개발 센터, *(주) 르네사스 테크놀로지 생산 기술 본부 웨이퍼 공정 기술 통괄부
• 제64회 응용물리학회 학술강연회(2003가을): 31a-ZK-8, p.669

5. 질소 플라즈마 처리에 의한 층간 절연막의 흡착수 방지

• 오오츠카 토시히로, 쿠토우치 치에, 이마니시 사다유키
• 마쓰시타 전기 산업 주식회사 반도체사 공정개발센터
• 제64회 응용물리학회 학술강연회(2003가을): 2p-YC-1, p.706

6.Material Properties and Process Compatibility of Spin-on Nano-foamed Polybenzoxazole for Copper Damascene Process

• Takashi Enoki, Kenzo Maejima, Hidenori Saito, Akifumi Katsumura
• Fundamental Research Laboratory, Research Department, Sumitomo Bakelite Co., Ltd.
• Mater. Res. Soc. Symp. Proc. Vol.740, 2003 Materials Research Society, I12.9.1

2002：논문·잡지·책

1.Force Driving Cu Diffusion into Interlayer Dielectrics

• Takuya Fukuda, Hirotaka Nishino, Azuma Matsuura and Nironori Matsunaga
• Association of Super-Advanced Electronics Technolugies
• Jpn.J.Appl.Phys.,41,537(2002)

2.Formation of Ammonium Salts and Their Effects on Controlling Pattern Geometry in the Reactive Ion Etching Process for Fabricating Aluminium Wiring and Polysilicon Gate

• Shuichi Saito*1*2, Kazuyuki Sugita*1, Jyunichi Tonotani*2 and Masashi Yamage*2
• *1 Graduate School of Science and Technology, Chiba University, *2 Corporate Manufacturing Engineering Center, Toshiba Corporation
• Jpn.J.Appl.Phys.,41,2220(2002)

3.Evolution of water vapor from indium-tin-oxide thin films fabricated by various deposition processes

• S.Seki*1, T.Aoyama*1, Y.Sawada*1, M.Ogawa*1, M.Sano*2, N.Miyabayashi*2, H.Yoshida*3, Y.Hoshi*1, M.Ide*4 and A.Shida*4
• *1 Graduate School of Engineering, Tokyo Institute of Polytechnics, *2 ESCO Ltd., *3 Geomatec Co., Ltd., *4 Yokohama City Center for Industrial Technology and Design
• J.Therm.Anal.Cal.,69,1021(2002)

4.승온 탈리법에 의한 투명 전도막의 평가

• 사와다 유타카, 세키 시게유키, 아오야마 타케시, 사노 마키코*, 미야바야시 노부요시*
• 도쿄 공예대학, *전자과학
• 투명 전도막의 새로운 전개, 제15장, 175(CMC 출판)

5. 중수소에 의한 극박 게이트 산화막의 고신뢰화 실증과 신뢰성 향상 기전의 해명

• 미타니 유이치로, 사타케 히데키
• (주)도시바 연구개발센터
• 도시바 리뷰, 57(11),34(2002)

6.청색 발광 BaAl₂S₄:Eu 박막의 열처리 과정 평가

• 나가노 신이치, 가와니시 미츠히로, 미우라 노보루, 마쓰모토 아키히사, 나카노 료타로
• 메이지대학 이공학부 전자통신공학과
• 신학기보 TECHNICAL REPORT OF IEICE.,EID2001-90,49(2002)

7.수소 가스를 이용한 티타늄 산화막의 가열 탈리 정량 동적 평가

• 야마우치 야스히로, 미즈노 요시유키**, 다나카 아키히로*, 혼마 사다카즈
• 치바 공업대학, *알백 파이(주), **스탠퍼드 대학 스탠퍼드 선형 가속기 센터
• 진공,45(3),265(2002)

8.플라즈마 디스플레이 패널용 MgO의 탈가스 특성

• 우에다 야스히로, 구로카와 히로시
• 미쓰비시전기(주) 첨단기술종합연구소
• 진공,45(2),97(2002)

9.표면의 과학-화학 반응의 물리-

• 무라타 요시마사
• 도쿄대학 명예교수
• 이와나미 강좌 물리학의 세계 (이와나미 서점)

2002: 학회 초록

1. 승온 탈리법을 이용한 티타니아 겔 막의 소성 공정 분석

• 야베 다카유키, 니시데 리이치, *미야바야시 노부요시, *사노 마키코
• 일본대학 공학부, *전자과학
• 2002년 일본 세라믹스 협회 연차 강연 예고집(2002년 3월): 2I21

^2.18O을졸-젤법에 의한 티타니아 겔 막의 소성 공정

• 니시데 리이치, 야베 타카유키, *미야바야시 노부요시, *사노 마키코
• 일본대학 공학부, *전자과학
• 2002년 일본 세라믹스 협회 연차 강연 예고집(2002년 3월): 2I22

3.동합금 내 수소 확산 거동에 미치는 석출상의 영향

• 도미타 히데아키, 쿠라모토 시게루*, 스가노 미키히로**
• 동경대 대학원, *도요타 중공업 연구소, **동경대 공학부
• 일본금속학회 춘계대회 강연개요(2002)；(1384)

4.승온 탈리 가스 분석을 이용한 박막 가스 센서 연구

• 다카하시 오사무, 하라 카즈히로
• 도쿄 전기 대학
• 제63회 응용물리학회 학술강연회 예고집(2002가을): 24p-K-2

5.알퀀트-3의 TDS를 이용한 분자 증착 공정 평가: 알퀀트-3 정제 효과

• 히라이 아츠시, 미토미 유타카, 이와사키 요시타카, 하스미 마사히코, 우에노 토모오, 쿠로이와 코이치, ＊사노 마키코, ＊미야바야시 노부요시
• 도쿄 농공대, ＊전자과학
• 제63회 응용물리학회 학술강연회 예고집(2002가을): 26p-ZH-1

6.청색 발광 BaAl₂S₄:Eu EL 소자의 수분 정량 분석

• 나가노 신이치, 미우라 노보루, 마쓰모토 고에이, 나카노 료타로
• 메이지대학 이공학부
• 제63회 응용물리학회 학술강연회 예고집(2002가을): 26p-ZD-14

2001：논문·잡지·책

1.Influences of Residual Chlorine in CVD-TiN Gate Electrode on the Gate Oxide Reliability in Multiple-Thickness Oxide Technology

• Masaru Moriwaki, Takayuki Yamada
• ULSI Process Technology Development Center, Matsushita Electronics Corporation
• Jpn.J.Appl.Phys.,40,2679(2001)

2.Recovery of useful hydrocarbons from oil palm waste using ZrO2 supporting FeOOH catalyst

• T.Masuda, Y.Kondo, M.Miwa, T.Shimotori, S.R.Mukai, K.Hashimoto, M.Takano*, S.Kawasaki*, S.Yoshida**
• Graduate School of Engineering, Kyoto University, Institute for Chemical Research, Kyoto University*, NGK Insulators LTD.**
• Chemical Engineering Science,56,897(2001)

3.Mechanism for low temperature activation of Mg-doped GaN with Ni catalysts

• (1)I.Waki, H.Fujioka, M.Oshima, (2)H.Miki, and M.Okuyama
• (1)Department of Applied Chemistry, The University of Tokyo, (2)Chichibu Research Laboratory, Central Reserch Laboratory, Showa Denko KK
• J.Appl.Phys.,90(12),6500(2001)

4.Study on temperature calibration of a silicon substrate in a temperature programmed desorption analysis

• N.Hirashita, T.Jimbo, T.Matsunaga, M.Matsuura, M.Morita, I.Nishiyama. M.Nishizuka, H.Okumura, A.Shimazaki, and N.Yabumoto
• Working Group of Equipment, Ultraclean Standardization Committee, Ultraclean Society
• J.Vac.Sci.Technol.A,19,1255(2001)

2001：학회 초록

1.승온 탈리 분석을 이용한 재료 평가

• Nobuyoshi Miyabayashi
• Electronic Science
• 2001 Kanagawa Prefecture Industry-Academia-Government Exchange Research Presentation (2001.10.19)

2. Surface Analysis and TDS

• Makiko Sano
• Electronic Science
• 4th Practical Surface Analysis Seminar (November 9, 2001)

3. Analysis of the Calcination Process of Titania Gel Films Using the Glue Method and Temperature-Rising Desorption Method

• Takayuki Yabe, Toshikazu Nishide, *Nobuyoshi Miyabayashi, *Makiko Sano
• College of Engineering, Nihon University, *Electronic Science
• Proceedings of the 14th Autumn Symposium of the Ceramic Society of Japan: 2B04

4. Fabrication and Evaluation of Inorganic-Organic Hybrids Exhibiting Gas Selective Adsorption Characteristics

• Noriko Yamada, Yuji Kubo, Shingo Katayama
• Advanced Technology Research Institute, Nippon Steel Corporation
• Proceedings of the 14th Autumn Symposium of the Ceramic Society of Japan: 3B07

5. Environmental Embrittlement of Vitreous Silica Fibers

• Ken-ichi Takai, Takeshi Noda, Daisaku Yamada, Noriyuki Hisamori and Akira Nozue
• Department of Mechanical Engineering, Sophia University
• The Japan Society of Materials Science 50th Anniversary International Symposium (May 2001)

6.Environmental Embrittlement of Al₂O₃ and ZrO₂ and Analysis of the Existence State of Water and Hydrogen

• Kazuhiko Noguchi, Ken-ichi Takai, Noriyuki Hisamori, Akira Nozue
• Sophia University, Faculty of Science and Technology
• The 129th Autumn Meeting of the Japan Institute of Metals, No.100.

7. Environmental Embrittlement of Quartz Glass Fiber and Analysis of Water and Hydrogen Presence Conditions

• Daisaku Yamada, Kenichi Takai, Akira Nozue
• Faculty of Science and Technology, Sophia University
• The 129th Autumn Meeting of the Japan Institute of Metals, No.99.

8. Review of the Plastic Process in Hafnium Thin Films by the Ascending Evaporation Method Using the Sol-Gel Process

• Kanaya Ata, Toshikazu Nishide, *Nobuyoshi Miyabayashi, *Makiko Sano
• Nihon Univ., *Electronics Science
• Proceedings of the 2001 Annual Meeting of the Ceramic Society of Japan (March 2001): 2K26

9. Plastic Deformation Process of Hafnium Thin Films Prepared by Sol-Gel Method Including 18O

• Rikichi Nishide, Kinya Adachi, *Nobuyoshi Miyabayashi, *Makiko Sano
• College of Engineering, Nihon University, *Electronic Science
• Proceedings of the 2001 Annual Meeting of the Ceramic Society of Japan (March 2001): 2K27

10. Study of ITO Transparent Conductive Films by the Temperature-Rising Degassing Method

• Nariyuki Seki, Yutaka Sawada, *Nobuyoshi Miyabayashi, *Makiko Sano, **Mieko Ide
• Tokyo Polytechnic University, *Department of Electronic Science, **Yokohama City Industrial Technology Support Center
• Proceedings of the 2001 Annual Meeting of the Ceramic Society of Japan (March 2001): 2K28

11. Oxygen Behavior of Silicon Nitride Powder (II)

• Yoshihisa Beppu, Motohide Ando, Tatsuki Oji*
• Synergy Research Institute, *National Institute of Advanced Industrial Science and Technology (AIST)
• Proceedings of the 2001 Annual Meeting of the Ceramic Society of Japan (March 2001): 2A34

12. Analysis of Hydrogen and Water Presence in Al₂O₃ and ZrO₂ Using Temperature-Rising Desorption Method

• Kazuhiko Noguchi, Masato Ota, Kenichi Takai, Noriyuki Hisamori, Akira Nomatsu
• Sophia University, Faculty of Science and Technology
• Abstracts of the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (1002)

13. Effect of H₂O and H₂ on the Environmental Brittleness of Quartz Glass Fibers

• Daisaku Yamada, Takeshi Noda, Kenichi Takai, Akira Nozue
• Sophia University, Faculty of Science and Technology
• Abstracts of the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (1071)

14. Hydrogen Diffusion Rate and In-Vivo Embrittlement of Niti Alloys

• Kenzo Asaoka, Kenichi Yokoyama
• Tokushima University, School of Dentistry
• Abstracts of the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (126)

15. Effect of Fe Content on Hydrogen Desorption Spectra in fcc Pd-Fe Alloys

• Hiroshi Yamashita, *Shuji Harada
• Graduate Student, Niigata University; *Faculty of Engineering, Niigata University
• Abstracts of the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (194)

16. Hydrogen-Induced Amorphization in BCC-Type Ti-Al-Zr Alloys

• Keisho Miyajima, *Kazuhiro Ishikawa, *Kiyoshi Aoki
• Kitami Institute of Technology, *Kitami Institute of Technology Faculty of Engineering
• Abstracts of the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (211)

17. Dehydrogenation Process of Nanostructured Graphite-Hydrogen Systems

• Tomoyoshi Matsushima, Shinichi Orimo, Hironobu Fujii
• Graduate School of Science, Hiroshima University
• Abstracts of the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (212)

18. Hydrogen Storage Characteristics of Ti₃Al-Based Alloys (Effect of Stoichiometric Deviation)

• Yusuke Kojima, Munenori Watanabe, *Kazuhide Tanaka
• Nagoya Institute of Technology (Graduate School), *Nagoya Institute of Technology･Faculty of Engineering
• Abstracts of the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (214)

19. Hydrogen Adsorption and Desorption Properties of Binary Ti-Al Alloys

• Kunihiko Hashimoto, *Kazuhiro Ishikawa, **Seisaku Suzuki, *Kiyoshi Aoki
• Kitami Institute of Technology Graduate School, *Kitami Institute of Technology Faculty of Engineering, **University of New South Wales,
• Abstract of Presentation at the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (215)

20. Transition Introduction in LaNi5 and Proton Trapping

• Yamamoto, Atsushiro, *Inui, Haruyuki, *Yamaguchi, Masaharu
• Kyoto Univ., Eng. Grad. Sch., *Kyoto Univ., Eng. Fac.
• Abstracts of the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (218)

21. Effect of Lattice Defects on Residual Hydrogen in LaNi5

• Koji Sakaki, *Hiroyuki Takeshita, *Nobuhiro Kuriyama, **Yukio Murakami, **Hiroshi Mizubayashi, ***Hideki Araki, ***Yasuji Shirai
• Osaka Univ. Graduate School, *Osaka Univ. Research Institute, **Tsukuba Univ., ***Osaka Univ. Faculty of Engineering
• Abstracts of the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (219)

22. Comparison of Hydrogen Desorption Characteristics in Ti-Zr-Ni Quasicrystals and Amorphous Powders Fabricated by Mechanical Alloying

• Akihito Takasaki, *Changho Han, **Yoshio Furuya
• Shibaura Institute of Technology･Eng., *Shibaura Institute of Technology(Graduate), **Nagasaki University Education
• Abstract of Presentation at the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (222)

23. Hydrogen Storage in (Mg, Yb)Ni2 Alloys

• Hideki Otsu, Kazuyuki Kanda, *Kazuhiro Ishikawa, *Kiyoshi Aoki
• Kitami Institute of Technology Graduate School, *Kitami Institute of Technology Faculty of Engineering
• Abstracts of the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (230)

24. High-Capacity Nano-Composite Mg Thin Film Capable of Absorption and Desorption at Low Temperatures

• Koichi Higuchi, Shu Kajioka, Kiyokazu Majima, Masahide Honda, *Kenichi Yamamoto, **Shinichi Orimo, Hironobu Fujii
• Western Hiroshima Prefecture Industrial Technology Center, *Mazda Motor Corporation, **Hiroshima University Graduate School of Engineering
• Abstracts of the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (231)

25. Grain Refining and Mechanical Properties of 5083 Al Alloy by Hydrogen Adsorption Treatment

• Kunio Funami, *Ryusei Sano
• Chiba Institute of Technology, Faculty of Engineering, *Graduate Student, Chiba Institute of Technology
• Abstracts of the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (256)

26. Hardness Increase in SUS304 Stainless Steel Due to Cathodic Hydrogen Absorption

• Hideki Hamaki
• Fukui University of Technology
• Abstracts of the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (264)

27. Helium and Deuterium Storage Properties of Ferritic Steel

• Yasuyuki Takao, *Hirotomo Iwakiri, *Naoaki Yoshida
• Kyushu Univ. Graduate School, *Kyushu Univ. Institute for Materials Research
• Abstracts of the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (64)

28. Microstructure and Protium Uptake/Desorption Characteristics of Mg2Ni/LaNi5 Composites

• Hayato Okumura, Akihiro Matsui, Shintaro Yamagiwa, Shigeharu Kamado, Yo Kojima
• Nagaoka University of Technology (Faculty of Engineering)
• Abstracts of the Spring Meeting of the Japan Institute of Metals (2001); (928)

29. ELECTRICAL AND STRUCTURAL PROPERTIES OF CATALYTIC-NITRIDED SiO2 FILMS

• Akira Izumi, Hidekazu Sato and Hideki Matsumura
• JAIST (Japan Advanced Institute of Science and Technology)
• Materials Research Society Symposium Proceedings, Vol. 670, pp. K7.8.1-K7.8.6, 2001

30. Low-Temperature Activation Mechanism of Mg-Doped GaN Using Ni Catalyst

• Kazutaro Waki, Hiroshi Fujioka, Masaharu Ojima, *Hisayuki Miki, *Mineo Okuyama　
• The University of Tokyo, *Showa Denko K.K.　　
• Proceedings of the 62nd Annual Meeting of the Applied Physics Society (Fall 2001): 11p-Q-2

31. Low-Temperature Activation of Mg-Doped GaN Using a Transition Metal Catalyst Layer

• Kazutaro Waki, Hiroshi Fujioka, Masaharu Ojima, *Hisayuki Miki, *Mineo Okuyama　
• The University of Tokyo, *Showa Denko　　
• Proceedings of the 62nd Applied Physics Society Conference (Fall 2001): 11p-Q-3

32. Delamination of Si by H⁺ Ion Implantation (ESR Evaluation)

• Shiho Sasaki, Tomio Izumi, *Toru Hara
• Tokai University, Engineering; *Hosei University, Engineering
• Proceedings of the 62nd Applied Physics Society Academic Conference (Fall 2001): 12a-V-7

33. TDS Analysis of Gases Desorbed from Carbon Nanotubes

• Makoto Okai, Yasuhiko Munekichi, Tomio Yaguchi, Nobuaki Hayashi
• Hitachi Display Group
• Proceedings of the 62nd Applied Physics Society Conference (Fall 2001): 12a-ZT-4

34. Film Quality Control in Radical Shower-CVD

• Akira Kumagai, Keiji Ishibashi, Hong Zhang, Masahiko Tanaka, Naotake Kitano, Ge Xu, Naoaki Yokokawa, Manabu Ikemoto
• Anelva
• Proceedings of the 62nd Annual Meeting of the Applied Physics Society (Fall 2001): 13a-C-7

35. Deposition Method Dependence of Epitaxial Growth SrRuO3 Thin Film Characteristics

• Kenji Takahashi, Takahiro Oikawa, *Keisuke Saito, Hiroshi Funakubo
• Tokyo Institute of Technology, Materials Science and Engineering, *Philips Japan
• Proceedings of the 62nd Applied Physics Society Conference (Fall 2001): 13a-ZR-8

36. Analysis of the Heat Treatment Process of Blue-Emitting BaAl₂S₄:Eu Thin Films Using the Temperature-Rising Desorption Gas Spectroscopy Method

• Shinichi Nagano, Noboru Miura, Hirohisa Matsumoto, Ryotaro Nakano
• Meiji University　
• Proceedings of the 62nd Applied Physics Society Academic Conference (Fall 2001): 14a-P14-12

37.유량 변조 제어 CVD를 이용한 TiN 박막 합성에서의 염소 탈리 과정 분석

• 霜垣幸浩, 濱村浩孝
• 동경대 공대
• 제62회 응용물리학회 학술강연회 예고집(2001가을): 14a-X-3

38. TDS를 이용한 Alq3 분자 증착 과정의 평가 및 그 응용

• *히라이 아츠시, *이와사키 요시타카, *아오미 마사히코, *, **우에노 토모오, *쿠로이와 코이치, ***사노 마키코, ***미야바야시 노부요시
• *도쿄 농공대·공학부, **현, 신에너지·산업기술종합개발기구(NEDO), ***전자과학
• 제48회 응용물리학 관계 연합 강연회 강연 예고집(2001.3 메이지대학); 29p-ZN-12

39. SiO₂ 박막을 통해 H⁺ 이온을 주입한 실리콘의 박리 현상(ESR 평가)

• 사사키 시호, 이즈미 도미오, *하라 토오루
• 도카이대 공학부, *호세이대 공학부
• 제48회 응용물리학 관계 연합 강연회 강연 예고집(2001.3 메이지대학); 30a-P11-7

40.승온 탈리 분석법에 의한 환경 계측용 센서의 동작 분석

• 요코야마 타츠야, 하라 카즈히로
• 도쿄전기대
• 제48회 응용물리학 관계 연합강연회 강연예고집(2001.3 메이지대학)；30p-ZR-10

41. Mg 도핑 GaN의 저온 활성화(1)-O3, N2O 중 열처리 효과-

• 와키 잇타로, 후지오카 히로시, 오지마 마사하루, *미키 히사유키, *후키자와 아키라
• 동경대 대학원 공학, *쇼와덴코(주) 지치부 연구실
• 제48회 응용물리학 관계 연합 강연회 강연 예고집(2001.3 메이지대학); 31p-K-2

42.진공상승온도에서의 a-Ge:H 막의 수소결합 상태와 막질 평가(Ⅲ)

• 이세키 카츠노부, 고바야시 신이치, 아오키 타케시
• 도쿄 공예대학 대학원･연계 최첨단 기술 연구 센터
• 제48회 응용물리학 관계 연합 강연회 강연 예고집(2001.3 메이지대학)；28a-ZL-8

43.수소 가스를 이용한 티타늄 산화막의 승온 탈리 동적 평가

• 야마우치 야스히로, 미즈노 요시유키, *다나카 아키히로, 혼마 사다카즈
• 치바 공업대학, *알백 파이(주)
• 제48회 응용물리학 관계 연합 강연회 강연 예고집(2001.3 메이지대학); 29p-ZF-6

44. 석영 유리에서의 반사 트리튬 가스 방출

• 나스 쇼이치, 문 아사시, *타니후지 타카아키, *미카와 시로
• 가나자와 공업대학, *일본 원자력 연구소
• 제48회 응용물리학 관계 연합 강연회 강연 예고집(2001.3 메이지대학); 29p-ZL-11

45. 수소 원자의 고상 터널 반응을 이용한 반도체 박막 형성을 위한 극저온 반응 장치 개발(Ⅱ)

• 사토 테츠야, 스즈키 카츠노리, 다카하시 유키노리, 히시키 시게오미, 오카자키 시게미츠, 나카가와 키요카즈, 히라오카 겐조, *사토 쇼지, *미야타 센지, **타카마츠 토시유키
• 야마나시 공대, *미야 통신 공업, **SST
• 제48회 응용물리학 관계 연합 강연회 강연 예고집(2001.3 메이지대학); 30a-ZT-7

2000: 논문·잡지·책

1. 수소화 유기 실록산 중합체와 수소 실세스퀴옥산의 비교 연구

• 정성웅, 김섭영, 신주한, 김준기, 박진원
• 현대전자(주) 메모리 R&D 부문
• Jpn.J.Appl.Phys.,39,5909(2000)

2.승온 탈리 분석법에 의한 분자성 오염 평가와 장치에 미치는 영향

• 히라시타 노리오
• 오키 전기 공업(주) 초LSI 연구개발 센터
• 리얼라이즈사, 반도체 클린화 기술 시리즈 기초 강좌[UCT-10]

3.상온 변태 온도 및 선재 가공이 공액강 수소 흡착 특성에 미치는 영향

• 타카이 겐이치, 노스에 아키라
• 소피아대학 이공학부 기계공학과
• 일본금속학회지,64,669(2000)

4.DRAM용 Ta₂O₅ 커패시터 형성 기술

• 카미야마 사토시
• 일본전기(주) 시스템 디바이스 기초연구본부
• 응용물리,69,1067(2000)

5.플라즈마 디스플레이 패널용 MgO 막 증착 시 산소 분압과 가스 흡착 특성

• 사와다 다카오, 와타베 켄지*, 후쿠야마 케이지, 오오히라 타쿠야, 기누카와 마사루, 사노 코**
• 미쓰비시전기(주) 첨단기술종합연구소, * (주)에버렘, **미쓰비시전기(주) 디스플레이 디바이스 통괄사업부
• 진공,43(10),973(2000)

6.저유전율 메틸실록산 스핀온글라스 필름의 특성 분석

• 야마다 노리코, 다카하시 토루
• 일본제철(주) 첨단기술연구소
• Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) pp. 1070-1073

2000: 학회 초록

1. 결정성이 다른 AlOOH의 가열 상변화

• 나가시마 토오루, 카메시마 긴이치, 야스모리 아츠오, 오카다 키요시, *사노 마키코
• 동경공대 대학원 이공학, *전자과학
• 일본 세라믹스 협회 제13회 가을 심포지엄 요지집

2. 고체 NMR에 의한 산화규소 및 그 구조 분석

• 아라마타 미키오, 후쿠오카 히로후미, 후지오카 카즈토시
• 신에츠 화학 군마 사업소
• 제61회 분석화학토론회(2000.05.18 나가오카 리릭홀): 2H14

3.SiO2-Si 계면 근처의 수소 분포

• Y.Kawashima, Z.Liu, H.Kawano and M.Kudo*
• NEC Corporation 분석기술개발부, *세이세키대학 공학부
• 제2회 SIMS 및 관련 기술 국제 심포지엄 논문집(2000.11)

4.승온 탈리법에 의한 HfO₂ 박막의 소성 과정 연구

• 아다 카네야, 니시데 리이치, 미야바야시 노부요시*, 사노 마키코*
• 일본대학 공학부, 전자과학*
• 일본 세라믹스 협회 도호쿠 홋카이도 지부 연구발표회 제20회 기초과학부회 도호쿠 홋카이도 지역 간담회(2000년 가을): 1P19

5.승온 탈리법을 이용한 HfO₂ 막의 분석

• 佐野真紀子, 宮林延良, 阿達金哉*, 西出利一*,
• 電子科学, *日大工
• 제4회 실용 표면 분석 강연회(2000.12.8): P1-10

6.승온 탈리법을 이용한 HfO₂ 막의 분석

• 노다 타케시, 야마다 다이사쿠, 타카이 켄이치, 노스에 아키라
• 소피아대학 이공학부
• 일본금속학회 가을대회 강연개요(2000) p509

7.석영 유리 섬유의 환경 취성에 미치는 물 및 수소의 영향

• 타카이 겐이치, 노다 타케시, 노스에 아키라
• 소피아대학 이공
• (사)일본철강협회 재료의 조직과 특성부회 과학기술진흥조정비종합연구 제5회성과보고회 심포지엄 개요집 p7(2000가을)

8. 물과 수소가 석영 유리 섬유의 환경 취성에 미치는 영향

• 타카이 겐이치, 노다 타케시, 카와무라 신지, 노스에 아키라
• 소피아대학 이공학부
• 제1회 마이크로 재료 심포지엄 강연 논문집 p43(2000년 가을)

9.저유전율 다공질 막의 ICP 산소 플라즈마 조사에 의한 막질 변화

• 후지우치 아츠시, 아라오 히로키, 에가미 미키, 나카지마 아키라, 콘도 에이이치*, 아사노 타네마사*
• 촉매화성공업(주) 파인연구소, 규슈공업대학 마이크로화 종합기술센터*
• 제61회 응용물리학 합동 학술강연회 예고집(2000가을): 4a-P4-18

10. 실리콘 기판 온도 교정법 1 UC 표준 규격

• 히라시타 노리오(오키 전기), 야부시마 히로쿠니(NTT-AT), 오쿠무라 하루키(도레이 리서치 센터), 시마자키 아야코(도시바), 진보 토모코(히타치), 니시즈카 마사루(도시바 마이크로일렉트로닉스), 니시야마 이와오(NEC), 마츠우라 마사즈미(미쓰비시전기), 마츠노 토시유키(마쓰시타 테크노리서치), 모리타 미즈호(오사카대)
• UCS 반도체 기반기술연구회 표준화위원회 장치분과
• 제61회 응용물리학 합동 학술강연회 예고집(2000가을): 4p-ZC-10

11. 실리콘 기판 온도 교정법 2 UC 표준 규격

• 히라시타 노리오(오키전기), 야베 슈코(NTT-AT), 오쿠무라 하루키(도레이 리서치 센터), 시마자키 아야코(도시바), 진보 토모코(히타치), 니시즈카 마사루(도시바 마이크로일렉트로닉스), 니시야마 이와오(NEC), 마츠우라 마사즈미(미쓰비시 전기), 마츠나카 토시유키(마쓰시타 테크노 리서치), 모리타 미즈호(오사카 대학)
• UCS 반도체 기반기술 연구회 표준화위원회 장치분과
• 제61회 응용물리학 합동 학술강연회 예고집(2000가을): 4p-ZC-11

12. 실리콘 기판 온도 교정법 3 UC 표준 규격

• 히라시타 노리오(오키전기), 야베 슈코(NTT-AT), 오쿠무라 하루키(도레이 리서치 센터), 시마자키 아야코(도시바), 진보 토모코(히타치), 니시즈카 마사루(도시바 마이크로일렉트로닉스), 니시야마 이와오(NEC), 마쓰우라 마사즈미(미쓰비시전기), 마쓰노 토시유키(마쓰시타 테크노리서치), 모리타 미즈호(오사카대)
• UCS 반도체 기반기술연구회 표준화위원회 장치분과
• 제61회 응용물리학 합동학술강연회 예고집(2000가을): 4p-ZC-12

13. 실리콘 기판 온도 교정법 4 UC 표준 규격

• 히라시타 노리오(오키 전기), 야베 슈코(NTT-AT), 오쿠무라 하루키(도레이 리서치 센터), 시마자키 아야코(도시바), 진보 토모코 (히타치), 니시즈카 마사루(도시바 마이크로일렉트로닉스), 니시야마 이와오(NEC), 마츠우라 마사즈미(미쓰비시전기), 마츠노 토시유키(마쓰시타 테크노리서치), 모리타 미즈호(오사카대)
• UCS 반도체 기반기술 연구회 표준화위원회 장치분과
• 제61회 응용물리학 합동 학술강연회 예고집(2000가을): 4p-ZC-13

14. 고선택비 산화막 에칭에서의 표면 반응층 분석

• 오자와 노부오, 타츠미 테츠야, 이시카와 켄지, 쿠리하라 카즈아키, 세키네 마코토
• ASET 플라즈마 연구소
• 제61회 응용물리학 합동 학술 강연회 예고집(2000가을): 6a-ZF-8

15. 얇은 SIO2 막을 통해 고농도 H+ 이온을 주입한 Si의 어닐링 특성

• 사사키 시호, 우지가와 히로아키, 초우드리 엘샤드 알리, 이즈미 도미오, 하라 토오루*
• 도카이대 공학부, 호세이대 공학부*
• 제61회 응용물리학 합동 학술 강연회 예고집(2000가을): 6p-ZD-17

16.W 폴리사이드 막의 에칭 특성

• 후쿠나가 히로유키, 나가토모 미키, 사이토 슈이치
• (주)도시바 생산기술센터
• 제61회 응용물리학 합동학술강연회 예고집(2000가을): 7a-W-8

17. 웨이퍼 표면 흡착 유기물의 흡착 및 탈착 거동 2

• 시라미즈 요시미, 타카다 토시카즈, 코마다 카오리*
• 일본전기(주), NEC소프트(주)*
• 제61회 응용물리학 합동 학술강연회 예고집(2000가을): 3p-ZC-7

18. HMDSO를 이용한 플라즈마 CVD법에 의한 저유전율막의 성막(1)－산화제로 N₂O를 사용하여－

• 야마모토 요이치, 이노시카쿠 히로시, 이시마루 토모미, 코타케 유이치로, 오오카와라 쇼지, 시오타니 키미*, 오오히라 코이치*, 마에다 카즈오*
• 캐논 판매(주), (주)반도체 프로세스 연구소*
• 제61회 응용물리학 합동 학술 강연회 예고집(2000가을): 4a-P4-21

19. NH₃/SiF₄계 a-SiN_x:F를 이용한 게이트 질화막의 극저온 형성(II)

• 오타 히로유키, 호리 마사루, 고토 토시오
• 나고야대학・공학부
• 제61회 응용물리학 합동 학술 강연회 예고집(2000가을): 5a-ZD-4

20. Si(100)2×1 상의 세슘 산화물의 TDS, UPS

• 이시노리 아키히코, 후지이 타카시, 토요시마 세이야, 우라노 토시오, 혼고 쇼조
• 고베대 공학부
• 제61회 응용물리학 합동 학술강연회 예고집(2000가을): 6a-S-1

21.졸거 법에 의한 HfO₂ 박막에 대한 불화 알코올의 흡착

• 아다 카네야, 니시데 리이치, 와타나베 오사무*, 타카세 츠기코*, 미야바야시 노부요시**
• 일본대학 공학부, 후쿠시마현 하이테크 플라자*, 전자과학(주)**
• 제47회 응용물리학 관계 연합 강연회 예고집(2000 봄): 29a-ZG-3

22.저유전율 절연막을 이용한 다마신 배선 구조에서의 용량 온도 의존성

• 히가시 와사유키, 마츠나가 노리아키, 나카타 진페이, 시바타 히데키
• (주)도시바 세미컨덕터사 마이크로일렉트로닉스 기술연구소
• 제47회 응용물리학 관계 연합강연회 예고집(2000년 봄): 29p-YA-11

23. 각종 습식 공정 처리에 의한 유기 폴리머계 저유전율 절연막 PAE에 미치는 영향

• 키타자와 요시유키, 토모히사 신고, 니시오카 야스타카, 야스다 나오키, 무라나카 세이지*, 고토 킨야*, 마츠우라 마사즈미*, 도요타 요시히코, 오모리 타츠오
• 미쓰비시전기(주) 첨단기술종합연구소, ULSI기술개발센터*
• 제47회 응용물리학관계연합강연회 예고집(2000 봄): 29p-YA-16

24. 플라즈마 중합법에 의한 BCB 막의 유전율 저감

• 다다 무네히로, 카와하라 준, 하야시 요시히로
• NEC 실리콘 시스템 연구소
• 제47회 응용물리학 관계 연합 강연회 예고집(2000년 봄): 29p-YA-8

25.Investigation of Correlation between Structures and Adsorption States of Alkanethiol Self-Assembled Monolayers on Au(111)

• J.Noh, T.Araki*, K.Nakajima and M.Hara
• FRS RIKEN, Saitama Univ.*
• 제47회 응용물리학 관계 연합 강연회 예고집(2000년 봄): 29p-YA-8

26. 불소화 알칸티올 자기조립 단분자막의 흡착·탈리 과정에 관한 연구

• 스즈키 아키히로1, 오쿠데 유리코1, 나카무라 후미오2, 하라 마사히코12, 타마다 카오루3, 후쿠시마 히토시4, T.R.Lee5
• 도쿄공대 총합이공1, 리켄2, 물질연구소3, 세이코엡슨4, 휴스턴대5
• 제47회 응용물리학 관계 연합 강연회 예고집(2000년 봄): 29p-YA-8

27. Si 웨이퍼 표면에서의 수분 및 유기물 흡착 상태 분석

• 모리모토 토시히로, 우에무라 켄이치
• 신일본제철(주) 첨단기술연구소
• 제47회 응용물리학 관계 연합 강연회 예고집(2000년 봄): 28p-YH-7

28. 저유전율 SOG 내의 관능기의 플라즈마 반응성

• 콘도 에이이치, 유미이 토시야, 아사노 타네마사, 아라오 히로키*, 나카지마 아키라*
• 규슈 공업대학 마이크로화 종합기술센터, 촉매화성공업(주), 파인 연구소*
• 제47회 응용물리학 관계 연합 강연회 예고집(2000년 봄): 29a-YA-10

29. 티타늄 표면 연마에 의한 가스 방출 특성

• 오카다 다카히로, 다나카 아키히로, 미즈노 요시유키, 혼마 사다카즈
• 치바 공업대학, 알백 파이(주)* , 일본 발카 공업(주)**
• 제47회 응용물리학 관계 연합 강연회 예고집(2000년 봄): 29a-ZG-1

30. Ta₂O₅/TiN_x/Si(x1)의 어닐링 시 TiN층에서 방출되는 과잉 질소

• N.Yasuda*,***，H.C.Lu*，E.Garfunnkel*，T.Gustafsson*，J.P.Chang**，G.Alers**
• Rutgers University*，Lucent Technologies**，On leave from Toshida Corporation***
• 제47회 응용물리학 관계 연합 강연회 예고집(2000 봄): 29a-ZG-3

31. 승온 탈리법을 이용한 비정질 실리콘 막 내 수소의 정량

• 이노요시 사카에, 사이토 카즈야, 하시모토 마사노리*, 아사리 신*
• 일본진공기술(주) 쓰쿠바초자재연구소, 동 치바초자재연구소*
• 제47회 응용물리학 관계 연합 강연회 예고집(2000년 봄): 29p-ZH-1

32.진공상승온도에서의 a-Ge:H 막의 수소결합 상태와 막질 평가

• 이세키 카츠토, 고바야시 신이치, 아오키 타케시
• 도쿄 공예대학 대학원・연계 최첨단 기술 연구 센터
• 제47회 응용물리학 관계 연합 강연회 예고집(2000년 봄): 29p-ZH-6

33. 글로우 방전법으로 제작한 a-SiC:H의 막 구조와 표면 관찰(II)

• 모토하시 미츠야, 소에 쿠미, 혼마 카즈아키
• 도쿄 전기대학 공학부
• 제47회 응용물리학 관계 연합 강연회 예고집(2000년 봄): 29p-ZH-9

34. 수소 종단 Si(111) 표면에서의 선택적 수소 탈리에 의한 댕글링 본드 와이어 열의 형성

• 이노우에 코스케, 사카가미 히로유키, 신미야하라 쇼조, 타카하기 타카유키
• 히로시마 대학 공학부
• 제47회 응용물리학 관계 연합 강연회 예고집(2000년 봄): 30p-YH-11

35. 실리콘계 화합물의 상태 분석에 대한 고체 NMR의 응용

• 아라마타 미키오
• 신에츠 화학 군마 사업소
• 제26회 고체 NMR·재료 연구회(2000.05.08 교토 헤이안 회관)

36.HfO₂ 박막의 가열 탈리법을 이용한 소성 공정 및 표면 상태 연구

• 아다 가네야, 니시데 리이치, *미야바야시 노부요시, *사노 마키코
• 일본대학 공학부, *전자과학
• 제36회 열측정 토론회 강연 요지집, 90(2000가을)

37.CeO₂ 박막의 가열 탈리법을 통한 표면 상태 연구

• 니시데 리이치, 토키와 사토코, *미야바야시 노부요시, *사노 마키코, **사토 치히토
• 닛폰대학 공학부, *전자과학, **닛산 아크
• 제36회 열측정토론회 강연요지집, 92(2000가을)

38. 금속 산화물 박막의 TDS에 의한 표면 분석

• 니시데 리이치
• 일본대학 공학부
• 제8회 TMS 연구회 예고집 p4(2000.4.28)